窒化ケイ素セラミックるつぼ

窒化ケイ素 (Si3N4) セラミックスは、その優れた総合特性で知られる重要な構造材料です。高い曲げ強度、破壊靱性、耐摩耗性、耐熱衝撃性などの優れた特性を備えており、ファインセラミックスの中でも最も優れた性能を誇ります。窒化珪素セラミックルツボはガス圧焼結法で製造されており、熱膨張係数が低く、熱伝導率が高いため、耐熱衝撃性に優れています。 1200 度以内では、窒化ケイ素セラミックは高い強度と耐衝撃性を備えています。

窒化ケイ素るつぼは、大学や研究機関の化学実験室や物理実験室で高温化学分析や材料科学実験に広く使用されています。これらは主に金属加工やセラミック製造業界で金属やその他の高融点材料を溶解するために使用されます。ガラスまたは特殊合金の溶解を処理するための高温炉の溶解容器として使用されます。化学生産、特に極端な温度や化学的安定性などが必要なプロセスの反応容器として使用されます。

- 最大 1200 度の温度に耐えることができ、その高い熱安定性と耐熱性により、極端な条件下でも信頼性の高い使用が保証されます。

・各種薬品（酸性、アルカリ性物質を含む）に対して高い耐食性を有します。

-高い熱衝撃安定性（△T度500）

ChipNano Advanced Materials は、Si3N4 セラミックるつぼおよびセラミック部品 (基板、ロッド、チューブ、リング、プレート、特殊形状部品など) をさまざまな仕様とモデルで提供し、お客様の図面に従って製品を加工することができます。

窒化ケイ素るつぼの寸法

製品は顧客の要件に応じてカスタマイズできます。