窒化シリコン基質

窒化シリコン(SI3N4)は、その例外的な機械的強度、熱安定性、電気断熱特性.電子、自動車、航空宇宙、産業部門の高速アプリケーションで広く使用されている. .}

窒化シリコンの重要な特性

 高い機械的強度:優れた骨折の靭性と耐摩耗性.

 熱安定性:高温でパフォーマンスを維持します(酸化環境では最大1,400度).

 低熱膨張:サーマルサイクリングアプリケーションに最適な熱応力を最小化.

 電気断熱:電子基板に適した高誘電率.

 耐薬品性:酸、アルカリ、溶融金属による腐食.

 生体適合性:非毒性と耐摩耗性のために医療インプラントで使用.

  • SI3N4基質
    アイテム:SI3N4基板
    材料:SI3N4
    サイズ:190*140*​​0.32mm、カスタマイズ
    形状:カスタマイズ
    プロセス:アイソスタティックプレス、高温焼結、高温アイソスタティックプレス、精密機械加工、表面研磨
    もっと

窒化シリコン(Si₃n₄)基質の用途

業界 アプリケーション
エレクトロニクスと半導体 高出力LED基板
パワーエレクトロニクス用の絶縁基板
MEMS(マイクロエレクトロメカニカルシステム)
自動車と航空宇宙 エンジンコンポーネント(ベアリング、ターボチャージャーローター)
タービンブレード用の耐熱コーティング
産業とエネルギー 切削工具と耐摩耗性の部品
太陽電池製造の基質
医療およびバイオテクノロジー 歯科インプラントと整形外科デバイス
手術器具

 

窒化シリコン基質の製造プロセス

プロセス段階 方法と詳細
粉末準備 - 直接ニトリッド:シリコンパウダー +n₂ガス→si₃n₄
- 炭水化物の削減:Sio₂ + C +N₂→Si₃n₄ + co
形成テクニック - 乾燥圧力:高圧圧縮
- 等吸着プレス:静水圧による均一密度
- スリップキャスト:複雑な形の場合
焼結 - 圧力のない焼結:焼結エイズを備えた1,700〜1,800度(y₂o₃、al₂o₃)
- ホットプレス(HP) /ホットアイソスタティックプレス(HIP):密度と強度を向上させる
後処理 - 機械加工(研削、研磨)
- コーティング(アプリケーション固有)

 

他のセラミックに対するsi₃n₄の利点

財産 比較
熱衝撃耐性 アルミナよりも優れている(al₂o₃)
骨折の靭性 ジルコニアよりも高い(zro₂)
高温性能 酸化環境における炭化シリコン(原文)よりも優れています

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