SI3N4基質
SI3N4基質

SI3N4基質

アイテム:SI3N4基板
材料:SI3N4
サイズ:190*140*​​0.32mm、カスタマイズ
形状:カスタマイズ
プロセス:アイソスタティックプレス、高温焼結、高温アイソスタティックプレス、精密機械加工、表面研磨
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製品の説明
Si3N4-Ceramic-Substrate

基本情報

 

Si3N4基質は、高強度、高温導電率、高温抵抗、高耐摩耗性、酸化抵抗、低熱膨張係数、熱衝撃耐性.同時に、気管、酸素を使用する最良の材料を使用する最良の材料を使用することができます。電力統合回路.

 

Chipnano Advanced Materialsは、SI3N4基板、チューブ、シート、ロッド、プレート、リング、十字架、カスタマイズされた部品など、さまざまな窒化シリコンセラミック製品を提供しています。

窒化シリコン基質の特性

- 高温抵抗

窒化シリコンセラミック基質は高温に対して非常に耐性があり、加熱された場合でも窒素セラミック基板シリコンが溶けず、温度が1900度に達するまで脱落し始めることなく、.を減らすことなく、1200度の高温で維持できます。

- 機械的強度

窒化シリコンセラミック基質は機械的強度が高く、曲げ強度は800mpa .に達する可能性があります。機械産業.

- 窒化シリコン基質は、窒化アルミニウムとアルミナ基板の2倍以上の曲げ強度を持っています

- アルミナおよびZTA基質の熱伝導率の3倍以上

-Siのそれに一致する高断熱ーと熱膨張係数

- 膨大な熱衝撃耐性と高強度

 

Silicon-Nitride-Si3n4-Ceramic Substrate
仕様

窒化シリコンセラミック基板仕様

製品

SI3N4基質

材料

SI3N4

タイプ

カスタマイズ

プロセス

アイソスタティックプレス、高温焼結、高温アイソスタティックプレス、精密機械加工、表面研磨

表面の粗さ

ra 0.6um

 

SI3N4基質の寸法

L x W x T

50.8x50.8x0.32mm

140x190x0.5mm

基板のサイズをカスタマイズできます

Si3N4 Substrate
アプリケーションと梱包

 

アプリケーション

窒化シリコンセラミック基質は、その優れた断熱材、その他の環境、および製造スイッチ回路基板、フィルムコンデンサ、レーダーアンテナカバーなどの高温特性により、半導体、航空、原子エネルギー、およびその他の産業で広く使用されています。強さ.

 

パッキング

Si3N4基板は壊れやすく、注意を払って処理する必要があります{.商品の標準的なパッケージは、荷重、降ろし、輸送中の材料を保護するための木製の箱です.カートンは、小さなセラミック製品にも使用されます.も使用されます

Si3N4 Substrate

 

  • Silicon Nitride Rods
    SI3N3セラミックロッド
  • Si3N4 Rod Packing
    SI3N4ロッドパッキング
  • Silicon Carbide Rod
    シリコンカーバイドロッド
  • Si3N4 Ceramic Rods
    SI3N4セラミックロッド

 

 

人気ラベル: SI3N4基板、中国SI3N4基板メーカー、サプライヤー、工場